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光學薄膜清洗用超純水設備zl-bm001

光學薄膜清(qing)洗(xi)用超純水設備

  設備參數:
名稱:光學薄膜清洗用超純水設備
型號:zl-bm001
操作壓力:5(Mpa)
水電阻率:18
出水量:1-100
外形尺寸:18000(cm)
電壓:380(V)
水質:超純水
功率:130(w)
電導率:2
脫鹽率:90(%)
單機動力:1-100(/h)
    光學薄膜清洗用超純水設備在設計上,采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+精混床除鹽水處理工藝,確(que)保(bao)處理(li)后的超純水(shui)水(shui)質確(que)保(bao)處理(li)后出水(shui)電(dian)阻率達(da)到18.2 MΩ.cm。關鍵(jian)設備及材料均采(cai)用(yong)可靠產品,采(cai)用(yong)PLC控制,全套系統自動化程(cheng)度高,系統穩定性好(hao)。大(da)大(da)節省人力(li)成(cheng)本(ben)和維護成(cheng)本(ben),水(shui)利用(yong)率高,運行可靠,經(jing)濟合理(li)。

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